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Wir über uns
Die enge Zusammenarbeit mit unseren Kunden zur Realisierung effizienter Technologien zur plasmachemischen Oberflächen- bearbeitung ist Grundsatz des Unternehmenskonzepts. Wir beurteilen unsere Tätigkeit nach dem Erfolg und der Zufriedenheit unserer Kunden.
Aus langjähriger Tätigkeit in Forschung und Entwicklung zur Halbleitertechnologie, Plasma- und Hochfrequenztechnik resultieren unser Know how und unsere Kompetenz auf dem Gebiet der
• plasmachemischen Gasphasenabscheidung (Plasma-CVD) dünner
Schichten für elektronische Anwendungen auf großen Flächen und
der
• Plasmapolymerisation von Schichten mit definierten mechanischen,
optischen und elektronischen Eigenschaften sowie zu
• Komponenten der Hochfrequenzleistungstechnik.
Grundlegende Ziele unserer Tätigkeit sind technologisch und
technisch ausgereifte Lösungen sowie schnelle, fachmännische Hilfestellung durch
• Technologienachweis im Unternehmen
• Kooperation mit kompetenten Lieferanten von Anlagen der
Vakuum-Dünnschichttechnik und relevanten Anlagenkomponenten
wie beispielsweise Hochfrequenzleistungsversorgungen
• Zusammenarbeit mit Forschungseinrichtungen und Hochschulen mit
leistungsfähiger Meß- und Analysetechnik, z.B. mit der
Forschungszentrum Jülich GmbH.
Der bestmöglichen Unterstützung unserer Kunden dient auch unser leistungsfähiger Service zu unmittelbar prozeßbestimmenden peripheren Reaktorbaugruppen, den
• Generatoren und Anpassungen der Hochfrequenzleistungstechnik
und
• Massenflußreglern.
Wir bemühen uns, unsere Kunden bei der Lösung ihrer Aufgaben mit Leistungen wie 24 h-Service und umfassendes Personaltraining zu unterstützen.
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KONTAKT
FAP GmbH Dresden
Gostritzer Str. 61-63
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Tel.: + 49 351 8718117
Fax: + 49 351 8718416
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