Sonderanlagenbau & Lohnbeschichtung

Plasma- und AnlagenkomponentenProdukte

Bilder

Plasma CVD- Anlage für Hochtemperatur Silizium- Abscheidung

Upgrade einer ALD- Plasmaelektrode für die PEALD

Plasma- Linienquelle mit Hohlkathodenstruktur

Zweikammer Anlage für die Kombination PECVD/ CVD- Hochtemperatur (1200°C) Abscheidung

Hot Wire CVD Kammer für Siliziumlegierungen

P100LL

P350LL

PECVD Anlagen für solargrade Silizium

Ätzanlage zum Großflächen- Ätzen von Metallstrukturen

PECVD Elektrode für die Großflächige Abscheidung von amorphem Silizium

Auftrags- und Lohnbeschichtung

Auf Anfrage können wir Muster – oder Lohnbeschichtungen nach Ihrem Wunsch mit vorhandenen PECVD- und Plasmaanlagen ausführen. Für Schichtentwicklungen sehen wir mit unserem erfahrenen Personal Ihren Anfragen offen entgegen. Unser Labor ist für die Verwendung von gefährlichen Gasen ausgerüstet.

Technologien

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