Plasma- und Anlagenkomponenten – Produkte
- CVD/ PECVD- Anlagen, Komponenten und Upgrades
- Plasmaätz- Anlagen, Komponenten und Upgrades
- Elektrodensysteme für die PECVD/ ALD/ALE, Plasmaätzen
- Technologieentwicklung
- Planung von Gassteuersystemen/ Verdampfersystemen
Bilder
Auftrags- und Lohnbeschichtung
Auf Anfrage können wir Muster – oder Lohnbeschichtungen nach Ihrem Wunsch mit vorhandenen PECVD- und Plasmaanlagen ausführen. Für Schichtentwicklungen sehen wir mit unserem erfahrenen Personal Ihren Anfragen offen entgegen. Unser Labor ist für die Verwendung von gefährlichen Gasen ausgerüstet.
Technologien
- Amorphe Siliziumschichten bis 50µm
- Amorphe Siliziumschichten, solargrade
- Amorphe Siliziumschichten, Bor und Phosphor dotiert
- Amorphes Siliziumkarbid
- Siliziumverbindungen wie SixNy, SiOx, SiOCH, SiOxNy
- Abscheidung von hydrophilen und hydrophoben Polymerschichten
- Organische kohlenstoffhaltige Schichten
- Diverse physikalische und plasmachemische Ätztechnologien stehen ebenfalls zur Verfügung
- Weitere Technologien auf Anfrage.